柔性IM-ITO膜，特指通過先進的PVD工藝，在柔性基板上制備的、集成了?折射率匹配?光學(xué)結(jié)構(gòu)以實現(xiàn)視覺“消影”的氧化銦錫透明導(dǎo)電膜。該方案旨在解決柔性電子設(shè)備中透明電路?“看得見”?的行業(yè)痛點，實現(xiàn)視覺上的“隱形”，同時滿足柔性應(yīng)用對?“導(dǎo)電性”、?“柔韌性”?和?“可靠性”?的極致要求。

一個典型且高效的柔性IM-ITO膜采用?“三明治” 結(jié)構(gòu)：

最終膜系結(jié)構(gòu)：柔性基材 / SiO? (底層) / ITO / SiO? (頂層) /

PVD鍍膜工藝流程

卷對卷磁控濺射鍍膜技術(shù)，以實現(xiàn)高效率、大面積、連續(xù)化的生產(chǎn)。

1. 基材準(zhǔn)備與清洗

• 基材：透明聚酰亞胺、PET或其他高性能柔性薄膜。

• 清洗：采用多槽式精密清洗線，結(jié)合化學(xué)清洗、超聲波、等離子體活化等工藝，確保基材達到光學(xué)級潔凈度與表面能。

2. 卷對卷磁控濺射沉積

• 設(shè)備：多腔體卷對卷濺射鍍膜系統(tǒng)。

• 流程：

  • 抽高真空：將各工藝腔室抽至本底真空，為成膜提供純凈環(huán)境。

  • 沉積底層SiO?：在氬氧混合氣氛中，采用?反應(yīng)濺射?硅靶，沉積致密的SiO?薄膜。精確控制氧分壓以獲取理想化學(xué)計量比。

  • 沉積ITO導(dǎo)電層：在優(yōu)化的低溫工藝下（通常<150°C），濺射ITO靶材。關(guān)鍵控制?氧分壓?與?濺射功率，以在非晶或微晶狀態(tài)下獲得低電阻率、高透光率的ITO膜。

  • 沉積頂層SiO?：工藝與底層類似，但其?厚度是消影效果的決勝關(guān)鍵，需進行最精密的控制。

3. 在線實時監(jiān)測與閉環(huán)控制

• 集成?光學(xué)監(jiān)控系統(tǒng)，實時測量透射光譜和反射光譜，并將數(shù)據(jù)反饋給控制系統(tǒng)，動態(tài)調(diào)整工藝參數(shù)，確保膜厚和光學(xué)性能的納米級精度與批次一致性。

4. 后處理與檢測

• 后處理：視需進行低溫退火，以優(yōu)化ITO電學(xué)性能或釋放應(yīng)力。

• 性能檢測：

  • 光學(xué)：測量可見光區(qū)反射率、透光率及色度值。

  • 電學(xué)：測量方塊電阻及均勻性。

  • 機械：進行彎折、拉伸測試，驗證耐疲勞性能。

優(yōu)勢

• 極致視覺體驗：通過IM技術(shù)，實現(xiàn)ITO圖案的高強度“消影”，提升顯示純凈度。

• 優(yōu)異光電性能：在低溫下獲得低方阻、高透光率的柔性透明導(dǎo)電膜。

• 卓越柔性與可靠性：整體膜系設(shè)計兼顧柔性，耐反復(fù)彎折。

• 工藝成熟穩(wěn)定：卷對卷磁控濺射技術(shù)適合大規(guī)模量產(chǎn)，良率高。