PVD是物理氣相沉積的縮寫，指在真空狀態(tài)下通過(guò)材料蒸發(fā)進(jìn)行沉積鍍膜的技術(shù)。真空腔體是避免蒸發(fā)材料與空氣發(fā)生反應(yīng)的必要條件。PVD鍍膜可賦予產(chǎn)品高附加值特性，如絢麗色彩、卓越耐磨性和減摩功能。該工藝通過(guò)使金屬材料汽化后與氮?dú)獾确磻?yīng)氣體結(jié)合形成鍍層，基材材料在電弧工藝中受熱能激發(fā)或在濺射工藝中受動(dòng)能作用，從固態(tài)轉(zhuǎn)變?yōu)闅鈶B(tài)并發(fā)生電離。PVD技術(shù)全程符合環(huán)保要求，無(wú)污染產(chǎn)生。匯成真空始終專注于PVD鍍膜技術(shù)的研發(fā)與應(yīng)用。

物理氣相沉積涵蓋薄膜技術(shù)中的特定工藝，特指采用物理方法在基材上沉積薄膜的真空鍍膜技術(shù)。在各類PVD技術(shù)中，濺射沉積因其經(jīng)濟(jì)性成為眾多行業(yè)的標(biāo)準(zhǔn)化鍍膜方案，其優(yōu)勢(shì)在于能在多樣化基材上沉積多種材料。該技術(shù)已廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體表面精加工、光學(xué)偏振片制造、建筑玻璃大面積鍍膜等領(lǐng)域。我們不僅為客戶提供鍍膜系統(tǒng)，還憑借逾25年技術(shù)積累開發(fā)生產(chǎn)濺射靶材，形成完整的技術(shù)服務(wù)體系。

所有PVD工藝中，成膜材料初始均為固態(tài)并置于工藝腔內(nèi)（如濺射靶材）。通過(guò)激光脈沖、電弧、離子/電子轟擊等汽化方式，材料在基材表面冷凝形成薄膜。熱蒸發(fā)沉積通過(guò)電加熱使材料釋放至氣相，分子束外延和離子束濺射也屬PVD工藝范疇。PVD鍍膜具有膜層純度極高、均勻性優(yōu)異、附著力強(qiáng)等特點(diǎn)，為眾多應(yīng)用領(lǐng)域提供了替代傳統(tǒng)電化學(xué)工藝的環(huán)保解決方案。